光罩製作 (Mask Manufacturing)
經由雷射/電子束描繪機將線路圖描繪在石英/玻璃基板上,此基板(光罩),會藉曝光機投影成像技術,將其線路圖成像到晶圓或玻璃基板上。
光罩修補(Photo Mask Repair)
雷射氣相沉積(Laser CVD):
利用特殊雷射CVD成膜之技術,使用雷射將羰基金屬化合物-Cr(CO)6高溫分解(光解作用),使Cr附著於光罩上,進而將不良線路修補連接。
擴散及薄膜(Diffusion & Thin Film)
用途廣泛,應用於擴散、趨入、氧化、薄膜沉積、退火、熱燒結
可分為常壓、低壓沉積、原子層薄膜沉積
離子植入(Ion Implantation)
晶片透過離子束植入離子,增加半導體導電性,形成 p 型或 n 型半導體
主要分為高電流、中電流和高能量等離子植入機
濕蝕刻
利用藥液,將晶圓表面上的圖形,做選擇性地去除
可分為多反應槽式、單槽式、單晶圓式
清潔
要製作精密的矽晶圓產品,需要非常潔淨的表面,才能品質極佳化
光阻塗佈:去水烘烤、HMDS塗佈、光阻塗佈、軟烤
曝光:以曝光機搭配光罩使用
顯影:曝後烤、顯影、硬烤
利用氣體作為反應物,以低壓和高能的環境產生電漿,去除矽晶圓表面的薄膜,定義出圖形。
可分為物理性、化學性、活性離子。
將晶片表面之突出部分,藉由機械拋光方式除去,也可選擇部分拋光。
拋光期間會添加研磨漿料及化學物質,增加拋光率與平坦度。
製程檢測 (Process Metrology)
測量各製程機台的製程參數,如薄膜厚度、關鍵尺寸線寬、多層圖案對準、蝕刻深度、表面粗糙度及表面3D結構等。
氣體性分子污染物檢測(Airborne Molecular Contamination Monitoring)
偵測與監控無塵室內環境之可能AMC污染源,包括汙染氣體、製程反應逸散、設備材料本身揮發產生及設備維護過程氣體揮發等
氣體污染物防治(AMC/Particle Filtration)
藉由客製化學濾網去除進入廠房或設備端AMC問題。
藉由客製高效除塵濾網去除進入廠房或設備端粉塵問題。
以磁控濺射鍍膜方式於晶圓表面進行金屬鍍膜
利用光學投影成像或直接光刻,將電路圖案複印至覆蓋晶圓表面的光阻材料,以達成圖案化。
電鍍是一種電化學沉積過程,經由電解反應把一種金屬鍍於另一種金屬物體的表面。
貼合:將兩片不同功能的晶圓,經對準及貼合技術,使晶片彼此之間完成貼合;在應用上則區分永久性貼合及暫時性貼合。
剝離:將裝置晶圓(Device Wafer)暫時地貼合到一個載具晶圓(Carrier Wafer)上,助其後製程的晶圓薄化處理,完成後製程序之後接續進行剝離程序。
將已切好的晶片放置在IC基板上,並將之黏著,要求的是黏著的速度、正確度。
植球:將錫球(Solder)植入 IC 腳墊(Pad) 。
回流焊:透過熱處理程序熔化焊料,使錫球完全接合於焊墊。
無須助焊劑之植球與回焊及其檢測
Fluxless Solder Ball Bumping Total Solution
無須助焊劑熱壓接合晶片黏合機及其檢測
Fluxless Thermal Compression Gang Bonder & AXI+
晶圓表面缺陷檢測及量測:
利用光學取得晶圓表面影像,輔以電腦影像處理技術來檢出異物或圖案異常等瑕疵。
2維/3維 X光檢驗:
斷層掃描:提供掃描對象內部結構的三維圖像,包括缺陷或其他欲被檢驗區域的確切空間位置。
層析成像:介於2維X光檢查與3D斷層掃描技術中間體,目的為解決檢查平面組件的挑戰,提供可靠的檢驗缺陷並在平面對象中進行空間定位。