台湾唯一拥有MOCVD设备的领导厂商
汉民长期致力于MOCVD技术的创新与优化。除了具备成长氮化镓（GaN）、氮化铝（AIN）、砷化镓（GaAs）与磷化铟（InP）等材料的机型，产品应用领域广泛，包含高功率电子组件、LED 产业及光通讯领域。 在 MOCVD设备的开发中，针对市场对高效能与高可靠性的严格要求，设计出符合产业标准并能稳定提供高质量制程的设备。
有机化学气相沉积设备
Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) System
完整产品线，涵盖氮化镓（GaN）、GaN on Si、砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）之应用
齿轮式同步公自转机构
8''x6, 6"x8, 4"x18 最大化产能
独立可调加热系统
MOCVD 设备搭载三区独立可调加热系统，结合精密的温控与晶圆表面温度监控系统，透过回溯控制机制，确保晶圆温度分布的高度精准。同时，为了满足不同制程需求，系统设计具备独立控制的特殊气体注入口，可根据需求灵活调整气体流量，从而优化晶圆上的薄膜均匀性，此项设计可精确控制材料组成、膜层厚度及掺杂浓度等关键参数，适用于多样化的半导体制造需求。
行星式晶圆载盘运动设计
此外，系统采用行星式晶圆载盘运动设计，载盘的旋转速度可灵活调整，确保材料在不同制程条件下均匀沉积，满足各种精密组件的制造需求。
凭借领先的技术与创新设计，汉民科技提供高效能、高均匀性的MOCVD解决方案，推动半导体产业在多元应用领域不断突破，为行业发展奠定坚实基础。
